- Код статьи
- 10.31857/S0033849423100078-1
- DOI
- 10.31857/S0033849423100078
- Тип публикации
- Статус публикации
- Опубликовано
- Авторы
- Том/ Выпуск
- Том 68 / Номер выпуска 10
- Страницы
- 1040-1042
- Аннотация
- Зарегистрирована группа высокоэнергетичных положительных ионов O+ в потоке из плазмы сильноточного импульсного магнетронного разряда с горячей мишенью в газовой смеси Ar/O2. Механизмом возникновения ускоренных ионов O+ может выступать конверсия ускоренных в катодном слое отрицательных ионов O– → O+ в процессах перезарядки или ионизации электронным ударом.
- Ключевые слова
- Дата публикации
- 16.09.2025
- Год выхода
- 2025
- Всего подписок
- 0
- Всего просмотров
- 9
Библиография
- 1. Handbook of Thin Film Deposition / Eds K. Seshan, D. Schepis. 4th ed. Amsterdam: Elsevier, 2018.
- 2. Mattox D.M. Handbook of Physical Vapor Deposition (PVD) Processing. Amsterdam: Elsevier, 2010.
- 3. Aghda S.K., Holzapfel D.M., Music D. et al. // Acta Mater. 2023. V. 250. P. 118864.
- 4. Greczynski G., Petrov I., Greene J.E. et al. // J. Vac. Sci. Technol. Amer. Vacuum Soc. 2019. V. 37. № 6. P. 060801.
- 5. Ellmer K., Welzel T. // J. Mater. Res. 2012. V. 27. № 5. P. 765.
- 6. Welzel T., Ellmer K. // Vak. Forsch. Prax. 2013. V. 25. № 2. P. 52.
- 7. Kaziev A.V., Kolodko D.V., Tumarkin A.V. et al. // Surf. Coatings Technol. 2021. V. 409. P. 126889.
- 8. Tumarkin A.V., Kaziev A.V., Kharkov M.M. et al. // Surf. Coatings Technol. 2016. V. 293. P. 42.
- 9. Kolodko D.V., Ageychenkov D.G., Kaziev A.V. et al. // J. Instrum. 2019. V. 14. № 10. P. P10005.
- 10. Kolodko D.V., Kaziev A.V., Tumarkin A.V. // 8th Int. Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects. Tomsk. 2–8 Oct., 2022. Tomsk: TPU Publishing House, 2022. P. 1028.
- 11. Hippler R., Cada M., Stranak V. et al. // J. Phys. Commun., 2019. V. 3. № 5. P. 055011.
- 12. Hippler R., Cada M., Stranak V. et al. // J. Appl. Phys. 2019. V. 125. № 1. P. 013301.
- 13. Pokorný P., Bulíř J., Lančok J. et al. // Plasma Process. Polym. 2010. V. 7. № 11. P. 910.
- 14. Pokorný P., Musil J., Lančok J. et al. // Vacuum. 2017. V. 143. P. 438.
- 15. Hippler R., Denker C. // Plasma Sources Sci. Technol. 2019. V. 28. № 3. P. 035008.
- 16. Pokorný P., Mišina M., Bulíř J. et al. // Plasma Process. Polym. 2011. V. 8. № 5. P. 459.
