RAS PhysicsРадиотехника и электроника Journal of Communications Technology and Electronics

  • ISSN (Print) 0033-8494
  • ISSN (Online) 3034-5901

Metal–semiconductor–metal detectors ZnS/GaP for the ultraviolet and visible part of the spectrum with electrically tunable spectral photosensitivity

PII
10.31857/S0033849423090024-1
DOI
10.31857/S0033849423090024
Publication type
Status
Published
Authors
Volume/ Edition
Volume 68 / Issue number 9
Pages
924-929
Abstract
High-quality ZnS epitaxial layers grown on GaP semiconductor substrates by MOCVD method. Photodetectors of the visible and UV parts of the spectrum based on new interdigitated Schottky barrier metal–semiconductor–metal (MSM) contacts to semiconductor structure ZnS/GaP. The detectors exhibit low dark current values. The dependence of the characteristics of the spectral response of detectors on voltage has been established offsets. It was found that the long-wavelength response boundary of ZnS/GaP MSM detectors can shift from 355 to 450 nm when the bias voltage changes from 10 to 30 V. At the maximum photosensitivity wavelength of 450 nm, the ampere-watt sensitivity of the detector was 0.3 A/W at a bias voltage of 60 V, and the quantum efficiency was 82%.
Keywords
Schottky barrier metal–semiconductor–metal contact dark current hotosensitivity
Date of publication
16.09.2025
Year of publication
2025
Number of purchasers
0
Views
14

References

  1. 1. Lin C., Lu Y., Tian Y. et al. // Opt. Express. 2019. V. 27. № 21. P. 29962.
  2. 2. Monroy E., Omnes F., Calle F. // Semicond. Sci. Technol. 2003. V. 18. № 4. P. R33.
  3. 3. Бланк Т.Б., Гольдберг Ю.А. // Физика и техника полупроводников. 2003. Т. 37. № 9. С. 1025.
  4. 4. Qin Z., Song D., Xu Zh. et al. // Organic Electron. 2020. V. 76. Article No. 105417.
  5. 5. Vigue F., Tournie E., Faurie J.-P. // Electron. Lett. 2000. V. 36. № 4. P. 352.
  6. 6. Monroy E., Vigue F., Calle F. et al. // Appl. Phys. Lett. 2000. V. 77. № 17. P. 2761.
  7. 7. Vigue F., Tournie E., Faurie J.-P. // IEEE J. Quant. Electron. 2001. V. 37. № 9. P. 1146.
  8. 8. Chen W.-R., Meen T.-H., Cheng Y.-Ch. // IEEE Electron Device Lett. 2006. V. 27. № 25. P. 347.
  9. 9. Qin Z., Song D., Xu Zh. et al. // Organic Electron. 2020. V. 76. P. 105417.
  10. 10. Синицкая О.А., Шубина К.Ю., Мохов Д.В. и др. // Научно-технические ведомости СПбГПУ. Физико-математические науки. 2022. Т. 15. № 3.3. С. 157.
  11. 11. Soole J.B.D., Schumaher H. // IEEE J. Quantum Electron. 1991. V. 27. № 3. P. 737.
  12. 12. Аверин С.В., Гуляев Ю.В., Дмитриев М.Д. и др. // Квантов. электроника. 1996. Т. 23. № 3. С. 284.
  13. 13. Аверин С.В., Кузнецов П.И., Житов В.А. и др. // Физика и техника полупроводников. 2015. Т. 49. № 11. С. 1441.
  14. 14. Аззам Р., Башара Н. Эллипсометрия и поляризованный свет. M.: Мир, 1981. С. 379.
  15. 15. Aspnes D.E., Studna A.A. // Phys. Rev. B. 1983. V. 27. № 2. P. 985.
  16. 16. Averine S.V., Chan Y.C., Lam Y.L. // Solid State Electron. 2001. V. 45. № 3. P. 441.
  17. 17. Аверин С.В., Кузнецов П.И., Алкеев Н.В. // Журн. технич. физики. 2009. Т. 79. № 10. С. 89.
  18. 18. Averin S.V., Kuznetzov P.I., Zhitov V.A. et al. // Solid State Electron. 2015. V. 114. P. 135.
  19. 19. Averin S.V., Sachot R. // Solid State Electron. 2000. V. 44. № 9. P. 1627.
  20. 20. Lee I.-H. // Phys. Status Solidi A. 2002. V. 192. № 1. P. R4.
  21. 21. Kim D.-W., Chea K.-S., Park Y.-J. et al. // Phys. Status Solidi. 2004. V. A201. P. 2686.
  22. 22. Liu K.W., Ma J.G., Zhang J.Y. et al. // Solid State Electron. 2007. V. 51. № 5. P. 757.
  23. 23. Janow N.N., Yam F.K., Thahab S.M. et al. // Current Appl. Phys. 2010. V. 10. P. 1452.
  24. 24. Chang S.J., Su Y.K., Chen W.R. et al. // IEEE Photonics Technol. Lett. 2002. V.14. № 2. P. 188.
  25. 25. Yan Z., Jinglan S., Nili W. et al. // J. Semiconductors. 2010. V. 31. № 12. P. 124015.
  26. 26. Zhang Z., Wenckstern H., Schmidt M., Grundmann M. // Appl. Phys. Lett. 2011. V. 99. № 8. P. 083502.
  27. 27. Rhoderick E.H., Williams R.H. Metal-Semiconductor Contacts: Oxford: Univ. Press, 1988.
  28. 28. So I.K., Ma H., Zhang Z.Q., Wong G.K.L. // Appl. Phys. Lett. 2000. V. 76. № 9. P. 1098.
  29. 29. Sou I.K., Wu M.C.W., Sun T. et al. // J. Electronic Mater. 2001. V. 30. № 6. P. 673.
  30. 30. Lin T.K., Chang S.J., Su Y.K. et al. // Mater. Sci. Engineering B. 2005. V. 119. № 2. P. 202.
QR
Translate

Индексирование

Scopus

Scopus

Scopus

Crossref

Scopus

Higher Attestation Commission

At the Ministry of Education and Science of the Russian Federation

Scopus

Scientific Electronic Library